Фоторезистр ФП-М-09С

ТУ 2378-005-29135749-2007

Назначение

Предназначен для использования в качестве защитного светочувствительного материала в фотолитографических процессах при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем, металлизированных шаблонов, шкал, сеток, печатных плат и др.