Фоторезистр ФН-11Сп

ТУ 6-14-788-88

Описание

ФОТОРЕЗИСТЫ НЕГАТИВНЫЕ СЕРИИ ФН-11 (ФН-11С, ФН-11СК)

Назначение

Предназначены для использования в фотолитографических процессах в производстве интегральных схем, масок, гибких выводных рамок на основе фольгированных диэлектриков типа ФДИ, печатных микроплат, форм и других изделий с использованием кислых и щелочных травителей металлов и сплавов, а также для гальванического осаждения металлов (меди, стали, хрома и других). Обеспечивают формирование пленки методом окунания, центрифугирования или валковым методом. Фоторезисты серии ФН-11 являются аналогами по применению фоторезистов ФН-11Сн и ФН-11СКн. Возможен выпуск любой модификации, обеспечивающей толщину пленок от 1 до 3,5 мкм.

Гарантийный срок хранения

12 месяцев